世界快看：ASML回應(yīng)荷蘭半導(dǎo)體出口管制新規(guī)：并不適用于所有浸入式光刻設(shè)備

3月9日上午，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布聲明表示，ASML預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”

荷蘭政府在3月8日表示，計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。

(資料圖片)

信中還指出“荷蘭認(rèn)為有必要以最快的速度對(duì)這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行監(jiān)管，因此荷蘭政府將會(huì)盡快出臺(tái)一份國家管控清單”。

盡管信中并沒有指名道姓地點(diǎn)出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

ASML表示，由于該等即將出臺(tái)的法規(guī)，ASML將需要申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。基于相關(guān)的公告、對(duì)荷蘭政府許可證政策的預(yù)期以及當(dāng)前的市場形勢，預(yù)計(jì)這些管制措施不會(huì)對(duì)ASML已發(fā)布的2023年財(cái)務(wù)展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

ASML強(qiáng)調(diào)，新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統(tǒng)。截至目前企業(yè)尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會(huì)議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。?

ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。

此外，ASML指出，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求，并稱該公司A長期展望的基礎(chǔ)是全球長期需求和技術(shù)趨勢，而不是對(duì)具體地域的預(yù)期。自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。

ASML此前預(yù)計(jì)2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右。?

ASML聲明如下：

荷蘭政府于今日發(fā)布了有關(guān)即將出臺(tái)的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施的進(jìn)一步的信息。這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

由于該等即將出臺(tái)的法規(guī)，ASML將需要申請(qǐng)出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)。

這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。

基于今日的公告、我們對(duì)荷蘭政府許可證政策的預(yù)期以及當(dāng)前的市場形勢，我們預(yù)計(jì)這些管制措施不會(huì)對(duì)我們已發(fā)布的2023年財(cái)務(wù)展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

需要重點(diǎn)指出的是：新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統(tǒng)。盡管我們尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們?cè)谫Y本市場日會(huì)議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。此外，我們要指出，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最后，ASML的長期展望的基礎(chǔ)是全球長期需求和技術(shù)趨勢，而不是對(duì)具體地域的預(yù)期。

自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。

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